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UV光解凈化設(shè)備的主要工藝介紹

發(fā)布時間: 2021-04-27  點擊次數(shù): 1333次
  UV光解凈化設(shè)備是通過特別的紫外線光源產(chǎn)生不同的光子,利用惡臭廢氣物質(zhì)對光子的強烈吸收,在大量攜能電子的轟擊下使惡臭廢氣分子解離,并使呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成沒有害處小分子或低害的化合物,如CO2、H2O等。
 
  UV光解凈化設(shè)備的主要工藝:
 
  uv燈管:利用紫外線生產(chǎn)臭氧,分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,以達到凈化目的。
 
  光觸媒系統(tǒng):加快臭氧與有機分子的結(jié)合時間,在有效的時間、空間內(nèi),能加快*經(jīng)阿虎有機廢氣。
 
  均風(fēng)網(wǎng):為了讓風(fēng)速均勻進入機器內(nèi),以便讓廢氣與臭氣充分接觸,更好達到凈化目的。
 
  散熱器:安全系統(tǒng)設(shè)計周密,電源過載整流器、溫控儀六個工藝,可較關(guān)鍵的工藝在于澆筑工藝,它決定了冶煉鐵水質(zhì)量,溫度,材質(zhì)的主要三要素。
 
  UV光解凈化設(shè)備的技術(shù)說明:
 
  1、惡臭物質(zhì)能否被裂解,取決于其化學(xué)鍵鍵能是否比所提供的UV光子的要低。
 
  2、裂解反應(yīng)的時間短(<0.01s),氧化反應(yīng)的時間需2-3s。
 
  3、提供的UV光子總功率不夠或者含氧量不足,會因為裂解或氧化不好而生成一些中間副產(chǎn)物,從而影響凈化效率。
 
  4、UV光解凈化的穩(wěn)定,需要反應(yīng)溫度<70℃,粉塵量<100mg/m3,相對濕度<99%。
 
  5、條件滿足的情況下,UV光解凈化的更高凈化效率可達到95%以上。
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